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单腔室PECVD PINE-M-R-5

适用领域:高效异质结(HJT)太阳电池、TOPCon太阳电池等 集成电路工艺等领域

装备系统特点:

  反应腔与量产装备反应腔完全一致,无需再开发量产工艺,研发工艺可直接用于量产装备大规模生产
 

  先进的等离子体系统:等离子体快速稳定(稳定时间~0.1秒),频率可选13MHz40MHz


  先进的“双真空”设计

 

理想万里晖工艺实验室

理想万里晖薄膜设备有限公司的工艺实验室坐落于中国(上海)自由贸易试验区临港新片区,致力于PECVD的设备升级和工艺提升,具有HJT太阳能电池片生产的完整实验线和整套工艺方案,可为客户提供的技术交流、DEMO及产业化推广等服务。
 
工艺实验室拥有的配套设备及仪器如下:
1、 R&D PECVD设备(理想万里晖);
2、 硅片制绒清洗设备(YAC);
3、 磁控溅射ITO PVD设备(冯.阿登纳);
4、 丝网印刷设备(Micro Tech);
5、 I-V测试平台(伟信);
6、 膜厚测试平台(Semilab);
7、 分光光度计(岛津);
8、 Sinton少子寿命测试仪;

实验室配套主要设备照片

图1 理想万里晖实验室的制绒清洗设备
图1 理想万里晖实验室的制绒清洗设备
图3 理想万里晖实验室的PVD设备
图3 理想万里晖实验室的PVD设备
图2 理想万里晖实验室的PECVD设备
图2 理想万里晖实验室的PECVD设备
图4 理想万里晖实验室的丝网印刷设备
图4 理想万里晖实验室的丝网印刷设备

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